ME-L 是一款科研級全自動高精度穆勒矩陣型橢偏儀，凝聚了頤光科研團隊在橢偏技術多年的研發投入，其采用行業前沿的創新技術，包括消色差補償器、雙旋轉補償器同步控制、穆勒矩陣數據分析等。
  一、產品概述
ME-L 是一款科研級全自動高精度穆勒矩陣型橢偏儀，凝聚了頤光科研團隊在橢偏技術多年的投入，具備 1  全穆勒矩陣測量技術， 2  雙旋轉補償器同步控制技術，3  超級消色差補償器設計技術，4  納米光柵表征測量技術   等技術?？蓱糜诟鞣N各向同性/異性薄膜材料膜厚、光學納米光柵常數以及一維/二維納米光柵材料結構的表征分析。
■ 雙旋轉補償器(DRC)配置一次測量全部穆勒矩陣16個元素；
■ 配置自動變角器、五維樣件控制平臺等優質硬件模塊；
■ 軟件交互式界面配合輔助向導式設計，易上手、操作便捷；
■ 豐富的數據庫和幾何結構模型庫，保證強大數據分析能力
二、產品特點
■ 采用氘燈和鹵素燈復合光源，光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm)；
■ 可實現穆勒矩陣數據處理，測量信息量更大，測量速度快、數據更加精準；
■ 基于雙旋轉補償器設計，一次測量獲得全穆勒矩陣16個元素，相對傳統光譜橢偏儀可獲取更加全面量測信息；
■ 頤光核心技術確保在寬光譜范圍內，提供優質穩定的各波段光譜；
■ 數百種材料數據庫、多種算法模型庫，涵蓋了目前絕大部分的光電材料；
■ 集成對納米光柵的分析，可同時測量分析納米結構周期、線寬、線高、側壁角、粗糙度等幾何形貌信息。