針對LCD、OLED等新型平板顯示量產中所涉及的PI配向膜、光刻膠薄膜、ITO薄膜、有機發光薄膜、有機/無機封裝薄膜等質量控制需要，專門設計的在線薄膜測量系統。可適用于空氣、N2、真空等環境條件，自動實現玻璃基板上各種膜系結構厚度分布。
特點
■無破壞及高速的檢測
■膜厚測量:能準確的確定半導體制造工藝中的各種薄膜參數和細微變化,包括復雜多層薄膜結構
■OCD測量:可以進行顯影后檢查(ADI)刻蝕后檢查(AEI)等多種工藝段的二維或三維樣品的線寬、側壁角度(SWA).高度/深度等關鍵尺寸(CD)特征或整體形貌測量。可測量二維多品硅批極刻蝕(PO)隔離槽(STI)隔離層(Spacer)雙重曝光(Double Patterning)或三維連接孔(VIA)、鰭式場效應晶體管（FinFET),閃存(NAND)等多種樣品。
■使用自主開發的最新一代穆勒矩陣式膜厚&OCD 測量頭,考慮被測對象的各向異性,提供測量的靈敏度
■支持 SECS/GEM 產線互聯標準